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碳化硅制备

自粘碳化硅制备喷管的几个问题摘要:本文论证了自粘碳化硅材料制备喷管的可能性,分析了自粘碳化硅的自粘机理,拟订了自粘碳化硅喷管的工艺规范.此外,还讨论了喷管的。

[0003]本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此,本发明的一个目的在于提出一种多孔碳化硅陶瓷及其制备方法,利用该方法制备得到的多孔碳化硅陶。

碳化硅制备技术资料,碳化硅涂层,碳化硅衬底,碳化硅薄膜送货上门货到付款特色图书0129(提供最权威的资料)碳化硅制备技术资料,碳化硅涂层,碳化硅衬底,碳化硅薄膜[编著。

本发明公开了熔炼金属用高强度石墨碳化硅坩埚的制备方法,包括:1)原料配料;2)一次混料;3)混料干燥;4)破碎筛分;5)二次配料;6)二次混料;7)压制成型;8)切割修整;9)烘干;10)上釉。

本发明涉及一种低温制备介孔碳化硅材料的方法,属于无机化学和材料合成技术领域。本发明方法的步骤如下:将一定量的介孔二氧化硅SBA-15或KIT-6和蔗糖、H2SO4、去离子。

高比表面碳化硅制备及其作为催化剂载体的应用摘要:介绍了模板法、溶胶-凝胶法以及聚碳硅烷裂解法制备高比表面积碳化硅的主要过程和结果,并介绍了碳化硅作为催化。

碳化硅陶瓷的制备技术及应用,一、碳化硅的前沿二、SiC粉末的合成三、SiC的烧结方法四、反应烧结碳化硅的成型工艺五、碳化硅陶瓷的应用,1、前沿碳化硅陶瓷材料具有高。

碳化硅涂层是一种常见的碳化硅制备方法,通过在目标基体的表面涂上薄层,利用碳化硅的耐磨性、耐腐蚀性以及抗氧化性,为各种缺少相应优异特性的目标基体提供有效的防护。

摘要:采用放电等离子烧结(SPS)方法在1800℃制备了不同类型碳化硅(SiC)的BAS/SiC陶瓷基复合材料.采用阿基米德排水法、XRD、SEM及三点弯曲等分析测试手段研究。

金刚砂又名碳化硅(SiC)是用石英砂、石油焦(或煤焦)、木屑(生产绿色碳化硅时需要加食盐)等原料通过电阻炉高温冶炼而成。碳化硅在大自然也存在罕见的矿物,莫桑石。碳化硅又称碳硅石。在当代C、N、B等非氧化物高技术耐火原料中,碳化硅为应用最广泛。详情>>发展历史-物质品种-理化性质-全部

[0002]因其合成所需的特殊条件(非常高的温度,高还原性气氛),碳化硅是一种自然状态下极为罕见的材料。但是,这种材料具有非常多的优点,主要是由于其非常高的硬度及其耐火。

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一种铝碳化硅复合材料制备IGBT的基板,包括焊接面和散热面,所述焊接面为平面结构,所述散热面为拱形结构,所述焊接面和散热面均为铝合金层2,所述焊接面和散热面之间包括。

CNA公开了一种净水用梯度碳化硅陶瓷膜的制备方法及制备得到的净水用梯度碳化硅陶瓷膜材料。其碳化硅陶瓷膜材料具有连通孔隙率高,气孔分布呈梯度,强度高。

碳化硅陶瓷及制备工艺xin||举报阅读已结束,下载本文需要1下载券立即下载想免费下载本文?立即加入VIP免下载券下载文档10万篇精选文档免费下。

2018年5月30日近年利用碳化硅材料制作的IGBT(绝缘栅双极晶体管)等功率器件,已可采用少子.了碳化硅晶片制备全工艺流程知识产权体系,彻底打破了国外的技术和封锁,山东。

选择性刻蚀碳化硅制备金刚石的研究摘要:在高温下Cl2+H2体系可促使SiC转化为金刚石。论文从热力学角度分析了Cl2选择性刻蚀SiC制备金刚石时,Cl2和H2对sp2、sp3杂。

2王晓刚,刘永胜,李晓池,李强;碳化硅冶炼炉温度场的ANSYS模拟研究[J];山东陶瓷;2001年03期3郭兴忠,杨介更,王建武,曹明,高黎华,傅培新,杨辉;流化床对撞式气流粉碎制备Si。

本发明的目的在于,提供一种磁控溅射方法制备碳化硅薄膜工艺,是以硅为衬底,利用磁控溅射方式制备非晶碳化硅薄膜或者3C-SiC、4H-SiC、6H-SiC和15R-SiC结构的具有择优。

枝状碳化硅制备及吸波性能研究摘要:碳化硅具有优良的化学稳定性和良好的吸波性能,并且材料来源广、成本低,在吸波领域有极大应用前景。尽管如此,如何提高碳化硅的。

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